[发明专利]一种喷头和等离子体处理腔室有效

专利信息
申请号: 201810342567.5 申请日: 2018-04-17
公开(公告)号: CN110391120B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 姜鑫先;陈鹏 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;刘悦晗
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种喷头和等离子体处理腔室,喷头包括多组贯穿第一表面和第二表面的连通结构,连通结构开设在第一表面的通道入口与开设在第二表面的通道出口之间为非直连通道,以避免等离子体沿垂直于第一表面的直线方向通过喷头,这样可以增加H离子与喷头的碰撞几率,使H离子难以通过,提高H离子的过滤效果。而H自由基、H原子和H分子由于与导电材料制成的喷头的复合几率较低,因此可以保证大多数的H自由基、H原子和H分子通过该连通结构,从而保证晶圆表面的氧化物杂质的去除效果。连通结构可以在水平方向上对H离子进行阻挡,可以不再额外设置负直流高压电源和磁场线圈以额外对H离子施加水平方向的力,从而简化设备结构,降低生产成本。
搜索关键词: 一种 喷头 等离子体 处理
【主权项】:
1.一种喷头,具有相对设置的第一表面和第二表面,并包括多组贯穿所述第一表面和第二表面的连通结构,其特征在于,所述喷头由导电材料制成,且所述连通结构开于所述第一表面的通道入口与开于所述第二表面的通道出口之间为非直连通道,用于避免等离子体沿垂直于所述第一表面和所述第二表面的直线方向通过所述喷头。
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