[发明专利]一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置

摘要

本发明涉及一种层位校正的方法及装置，属于地质勘测领域，具体是涉及一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置。包括：根据钻孔电阻率测井曲线获取探测区地层电阻率与深度信息；经过统计和分析获得地层地电断面类型，确定电性标志层；逐点对比电性标志层实际深度与断面图上深度的差异，确定各测点的补偿深度；对测线上所有测点进行补偿校正，完成电阻率断面层位校正。本发明可以在获得地层起伏和钻孔电阻率测井曲线的基础上，以电性标志层和地层标志层为基础，快速准确地对层位不匹配现象进行校正，提高电阻率断面质量和精度。

主权项

1.一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，包括：距离确定步骤，获取探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层和地层标志层，并确定两标志层的实际距离；断面图标注步骤，在拟校正电阻率断面图上分别标注电性标志层与地层标志层并确定二者之间的测量距离；偏差确认步骤，逐点对比拟校正电阻率断面图上电性标志层与地层标志层之间的测量距离和实际距离的差异，确定各测点的补偿深度；测点补偿步骤，对所有测点进行补偿校正，完成电阻率断面的层位校正；其中，所述偏差确认步骤中，对第i个测点，电性标志层实际深度为电性标志层在断面图上的深度为地层标志层实际深度为定义电性标志层与地层标志层的实际距离则补偿深度d_i为：