[发明专利]一种对电阻率断面进行层位校正的方法及装置

权利要求书

1.一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，包括：

距离确定步骤，获取探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层和地层标志层，并确定两标志层的实际距离；

断面图标注步骤，在拟校正电阻率断面图上分别标注电性标志层与地层标志层并确定二者之间的测量距离；

偏差确认步骤，逐点对比拟校正电阻率断面图上电性标志层与地层标志层之间的测量距离和实际距离的差异，确定各测点的补偿深度；

测点补偿步骤，对所有测点进行补偿校正，完成电阻率断面的层位校正；

其中，所述偏差确认步骤中，对第i个测点，电性标志层实际深度为电性标志层在断面图上的深度为地层标志层实际深度为定义电性标志层与地层标志层的实际距离则补偿深度d_i为：

2.根据权利要求1所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，包括：所述距离确定步骤进一步包括：

测井曲线分析子步骤，根据钻孔电阻率测井曲线获取钻孔揭露地层电阻率和深度信息；

电性标志层确定子步骤，对钻孔数据统计分析，获得探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层；

地层标志层确定子步骤，根据地质资料确定的探测区地层稳定性和起伏情况，确定地层标志层。

3.根据权利要求2所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，所述测井曲线分析子步骤中：对尚未掌握地电断面规律的测区，统计至少3个钻孔的电阻率测井曲线，且钻孔应未布置在富水异常区；对已掌握地电断面规律、或与已掌握区域地质条件明确相同的测区，统计至少1个钻孔的电阻率测井曲线，且钻孔应未布置在富水异常区。

4.根据权利要求1所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，所述断面图标注步骤进一步包括：

电性标注子步骤，确认拟校正电阻率断面图在纵向上反映探测区地电断面，确定电性标志层的存在及其在电阻率断面图上的分布；

地层标注子步骤，在拟校正电阻率断面图上分别标注电性标志层与地层标志层。

5.根据权利要求1所述的一种对电阻率断面进行层位校正的方法，其特征在于，所述测点补偿步骤中，按以下公式对测点整体深度进行补偿校正：

D_i,1～n＝d_i,1～n+d_i

式中，D_i,1～n为校正后第i个测点第1道到第n道的深度，d_i,1～n为校正前第i个测点第1道到第n道的深度。

6.一种对电阻率断面进行层位校正的装置，包括：

距离确定模块，获取探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层和地层标志层，并确定两标志层的实际距离；

断面图标注模块，在拟校正电阻率断面图上分别标注电性标志层与地层标志层并确定二者之间的测量距离；

偏差确认模块，逐点对比拟校正电阻率断面图上电性标志层与地层标志层之间的测量距离和实际距离的差异，确定各测点的补偿深度；

测点补偿模块，对所有测点进行补偿校正，完成电阻率断面的层位校正；

其中，所述偏差确认模块中，对第i个测点，电性标志层实际深度为电性标志层在断面图上的深度为地层标志层实际深度为定义电性标志层与地层标志层的实际距离则补偿深度d_i为：

7.根据权利要求6所述的一种对电阻率断面进行层位校正的装置，其特征在于，包括：所述距离确定模块进一步包括：

测井曲线分析单元，根据钻孔电阻率测井曲线获取钻孔揭露地层电阻率和深度信息；

电性标志层确定单元，对钻孔数据统计分析，获得探测区地层的地电断面类型，确定电性标志层；

地层标志层确定单元，根据地质资料确定的探测区地层稳定性和起伏情况，确定地层标志层。