[发明专利]一种调焦调平装置、调焦调平方法及光刻设备

摘要

本发明公开了一种调焦调平装置、调焦调平方法及光刻设备。该调焦调平装置包括：在光路上依次设置的光源、投影单元、参数调节单元和探测单元，参数调节单元和探测单元之间用于放置被测器件。本发明的技术方案，通过增设参数调节单元，调节参数调节单元的光路调节单元，使经过参数调节单元的探测投影光束得到对应的探测投影光束信号，并根据参数调节单元的光路调节参数与标准探测信号的对应关系计算误差补偿因子，根据误差补偿因子与测量投影光束信号得到被测器件的离焦量，补偿了被测器件上工艺图案导致的误差，提高了测量的离焦量的准确度。

主权项

1.一种调焦调平装置，其特征在于，包括：在光路上依次设置的光源、投影单元、参数调节单元和探测单元，所述参数调节单元和探测单元之间用于放置被测器件；所述投影单元，用于产生投影光束，所述投影光束包括第一投影光束和第二投影光束，所述第一投影光束经过所述参数调节单元形成探测投影光束并投射到所述被测器件上，所述第二投影光束不经过所述参数调节单元形成测量投影光束直接投射到所述被测器件上；所述参数调节单元，包括光路调节元件，所述光路调节元件的光路调节参数可调，以调节所述探测投影光束在所述被测器件上入射时的入射参数；所述探测单元用于接收所述被测器件反射的探测投影光束并转化为探测投影光束信号，以及接收所述被测器件反射的测量投影光束并转化为测量投影光束信号，并根据所述探测投影光束信号和所述参数调节单元的光路调节参数与标准探测信号的对应关系计算误差补偿因子，根据所述误差补偿因子与所述测量投影光束信号得到所述被测器件的离焦量。