[发明专利]一种调焦调平装置、调焦调平方法及光刻设备

权利要求书

1.一种调焦调平装置，其特征在于，包括：在光路上依次设置的光源、投影单元、参数调节单元和探测单元，所述参数调节单元和探测单元之间用于放置被测器件；

所述投影单元，用于产生投影光束，所述投影光束包括第一投影光束和第二投影光束，所述第一投影光束经过所述参数调节单元形成探测投影光束并投射到所述被测器件上，所述第二投影光束不经过所述参数调节单元形成测量投影光束直接投射到所述被测器件上；

所述参数调节单元，包括光路调节元件，所述光路调节元件的光路调节参数可调，以调节所述探测投影光束在所述被测器件上入射时的入射参数；

所述探测单元用于接收所述被测器件反射的探测投影光束并转化为探测投影光束信号，以及接收所述被测器件反射的测量投影光束并转化为测量投影光束信号，并根据所述探测投影光束信号和所述参数调节单元的光路调节参数与标准探测信号的对应关系计算误差补偿因子，根据所述误差补偿因子与所述测量投影光束信号得到所述被测器件的离焦量。

2.根据权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，还包括：投影成像单元和探测镜组单元；

所述投影成像单元位于所述参数调节单元和所述被测器件之间；

所述探测镜组单元位于所述被测器件和所述探测单元之间。

3.根据权利要求2所述的调焦调平装置，其特征在于，所述投影单元包括一个投影狭缝组，以及投影成像单元包括一个投影物镜组，所述参数调节单元设置在所述投影单元和所述投影成像单元之间。

4.根据权利要求2所述的调焦调平装置，其特征在于，所述投影单元包括第一投影狭缝组和第二投影狭缝组，所述投影成像单元包括第一投影物镜组和第二投影物镜组，所述参数调节单元设置在所述第一投影狭缝组和所述第一投影物镜组之间；

所述第一投影狭缝组形成所述第一投影光束，所述第一投影光束经过所述参数调节单元形成所述探测投影光束，所述探测投影光束投影到所述第一投影物镜组，所述第二投影狭缝组形成所述第二投影光束，所述第二投影光束不经过所述参数调节单元形成所述测量投影光束，所述测量投影光束直接投影到所述第二投影物镜组。

5.根据权利要求4所述的调焦调平装置，其特征在于，所述光源包括第一光源和第二光源，所述探测镜组单元包括第一探测镜组单元和第二探测镜组单元，所述探测单元包括第一探测单元和第二探测单元；

所述第一光源发出的光经过所述第一投影狭缝组和所述参数调节单元形成的探测投影光束依次经过第一投影物镜组、被测器件、第一探测镜组单元和所述第一探测单元得到所述探测投影光束信号；

所述第二光源发出的光经过所述第二投影狭缝组形成的测量投影光束依次经过所述第二投影物镜组、被测器件、第二探测镜组单元和所述第二探测单元得到所述测量投影光束信号；

其中，所述探测投影光束和所述测量投影光束入射到所述被测器件的位置相同。

6.根据权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，所述探测投影光束包括第一子探测投影光束和第二子探测投影光束，所述第一子探测投影光束和所述第二子探测投影光束分别位于所述测量投影光束扫描方向的两侧。

7.根据权利要求1所述的调焦调平装置，其特征在于，所述光路调节元件包括转动平板、双反射镜组或棱镜组中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的调焦调平装置，其特征在于，所述第一投影光束从所述转动平板的第一表面入射，并从与所述第一表面相对的第二表面出射，形成所述探测投影光束，所述光路调节参数为所述转动平板的转动角度。

9.根据权利要求7所述的调焦调平装置，其特征在于，所述双反射镜组包括一个固定反射镜和一个可动反射镜，所述固定反射镜和所述可动反射镜相对设置；

所述第一投影光束从所述固定反射镜的表面入射，从所述可动反射镜的表面出射，形成所述探测投影光束，所述光路调节参数为所述固定反射镜和所述可动反射镜之间的距离。