[发明专利]一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机及其控制方法

摘要

本发明提供了一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机，包括支撑座及摆架，支撑座包括架板及垂直设于架板两端的竖板，支撑座为一体成型结构；摆架位于支撑座下方、且位于两竖板之间，摆架的顶面设有研磨皿；架板顶面设有定位板，定位板的两端设有导向孔；定位板的上方设有基座，基座的底部两端设有导向杆；基座的中部固定设有轴套，轴套贯穿定位板及架板、且轴套随基座竖向活动，轴套内设有压力轴，压力轴远离摆架的一端设有压力调节头，另一端设有治具；轴套外侧壁还设有用于紧固轴套与压力轴的锁紧装置；其结构简单，可减少工作行程，降低加工难度、提高打磨精度；同时可加强部件间的配合精度，减少磨损，提高设备使用寿命。

主权项

1.一种基座进给微程加压下摆式精磨抛光机，其特征在于：包括支撑座(100)及摆架(200)，所述支撑座(100)包括架板(110)及垂直设于所述架板(110)两端的竖板(120)，所述支撑座(100)为一体成型结构；所述摆架(200)位于所述支撑座(100)下方、且与两所述竖板(120)内侧相枢接，所述摆架(200)在外界驱动下于两所述竖板(120)之间摆动，所述摆架(200)上设有由电机驱动的转轴，所述转轴的末端设有用于打磨工件的研磨皿(210)；所述架板(110)顶面设有定位板(300)，所述定位板(300)的两端设有导向孔(310)，所述导向孔(310)贯穿所述定位板(300)及所述架板(110)；所述定位板(300)的上方设有基座(400)，所述基座(400)的底部两端设有导向杆(410)，所述导向杆(410)与所述导向孔(310)位置相对应、且所述基座(400)通过所述导向杆(410)沿所述导向孔(310)竖向活动；所述基座(400)的中部固定设有轴套(500)，所述轴套(500)贯穿所述定位板(300)及所述架板(110)、且所述轴套(500)随所述基座(400)竖向活动，所述轴套(500)内设有压力轴(600)，所述压力轴(600)的轴线与所述轴套(500)的轴线重合、且所述压力轴(600)沿所述轴套(500)竖向活动，所述压力轴(600)内设有压杆(800)，所述压杆(800)的轴线与所述压力轴(600)的轴线重合、且所述压杆(800)沿所述压力轴(600)竖向活动，所述压力轴(600)远离所述摆架(200)的一端设有用于调节所述压杆(800)压力的压力调节头(610)，所述压力轴(600)的另一端设有与所述压杆(800)相连接的治具(620)，所述治具(620)位于所述研磨皿(210)的上方、且位置相对应；所述轴套(500)外侧壁还设有用于紧固所述轴套(500)与所述压力轴(600)的锁紧装置(700)。