[发明专利]一种补偿激光原子磁力计磁屏蔽罩内部剩余磁场的方法有效

专利信息
申请号: 201810276922.3 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN108535668B 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 周欣;李桐;孙献平;赵修超;朱茂华;刘买利;叶朝辉 申请(专利权)人: 中国科学院武汉物理与数学研究所
主分类号: G01R33/032 分类号: G01R33/032;G01R33/00
代理公司: 武汉宇晨专利事务所 42001 代理人: 李鹏;王敏锋
地址: 430071 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出了一种补偿激光原子磁力计磁屏蔽罩内部剩余磁场的方法,旨在降低或者消除磁屏蔽罩内部剩余磁场,使得激光原子磁力计能够高灵敏度地测量弱磁。本发明针对实际操作中三轴线圈的小角度非正交性和激光传播方向与磁场主轴未完全重合、影响激光原子磁力计灵敏度这一问题而提出,通过多次循环调节三轴线圈内部电流,观测和拟合激光原子磁力计信号的方式,最终达到降低或者消除磁屏蔽罩内部碱金属原子蒸气泡处剩余磁场强度的目的。
搜索关键词: 磁力计 磁屏蔽罩 剩余磁场 激光 三轴线圈 激光传播方向 碱金属原子 多次循环 非正交性 高灵敏度 内部电流 影响激光 灵敏度 蒸气泡 重合 拟合 弱磁 磁场 测量 观测
【主权项】:
1.一种补偿激光原子磁力计磁屏蔽罩内部剩余磁场的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、将X方向磁场线圈电流初始值、Y方向磁场线圈电流初始值和Z方向磁场线圈电流初始值均设置为0A,其中,X方向为激光束传播方向,步骤2、在三轴线圈的X方向磁场线圈中以X方向磁场线圈电流初始值为中心施加对称的X方向扫描电流,通过差分光电探测器检测激光偏振面改变大小信号,并将激光偏振面改变大小信号输出至锁相放大器,锁相放大器以声光调制器的调制频率为参考频率,并由锁相放大器对激光偏振面改变大小信号进行幅度解调获得X方向扫描锁相放大器输出信号,记录X方向扫描锁相放大器输出信号和X方向磁场线圈扫描电流,再根据公式(1)对X方向扫描电流和X方向扫描锁相放大器输出信号进行拟合,由拟合的曲线方程得到X方向磁场线圈电流设定值,其中,fx(Ix)为X方向扫描锁相放大器输出信号,Ix为X方向扫描电流,a1、b1、c1均为拟合系数,Iinitialx为X方向磁场线圈电流初始值,Isetx为补偿X方向剩余磁场所需施加的X方向磁场线圈电流设定值,步骤3、在三轴线圈的Y方向磁场线圈中以Y方向磁场线圈电流初始值为中心施加对称的Y方向扫描电流,通过差分光电探测器检测激光偏振面改变大小信号,并将激光偏振面改变大小信号输出至锁相放大器,锁相放大器以声光调制器的调制频率为参考频率,并由锁相放大器对激光偏振面改变大小信号进行幅度解调获得Y方向扫描锁相放大器输出信号,记录Y方向扫描锁相放大器输出信号和Y方向磁场线圈扫描电流,再根据公式(2)对Y方向扫描电流和Y方向扫描锁相放大器输出信号进行拟合,由拟合的曲线方程得到Y方向磁场线圈电流设定值,其中,fy(Iy)为Y方向扫描锁相放大器输出信号,Iy为Y方向扫描电流,a2、b2、c2均为拟合系数,Iinitialy为Y方向磁场线圈电流初始值,Isety为补偿Y方向剩余磁场所需施加的Y方向磁场线圈电流设定值,步骤4、在三轴线圈的Z方向磁场线圈中以Z方向磁场线圈电流初始值为中心施加对称的Z方向扫描电流,通过差分光电探测器检测激光偏振面改变大小信号,并将激光偏振面改变大小信号输出至锁相放大器,锁相放大器以声光调制器的调制频率为参考频率,并由锁相放大器对激光偏振面改变大小信号进行幅度解调获得Z方向扫描锁相放大器输出信号,记录Z方向扫描锁相放大器输出信号和Z方向磁场线圈扫描电流,再根据公式(3)对Z方向扫描电流和Z方向扫描锁相放大器输出信号进行拟合,由拟合的曲线方程得到Z方向磁场线圈电流设定值,其中,fz(Iz)为Z方向扫描锁相放大器输出信号,Iz为Z方向扫描电流,a3、b3、c3均为拟合系数,Iinitialz为Z方向磁场线圈电流初始值,Isetz为补偿Z方向剩余磁场所需施加的Z方向磁场线圈电流设定值,步骤5、若X方向磁场线圈电流设定值与X方向磁场线圈电流初始值的差值小于设定阈值,且Y方向磁场线圈电流设定值与Y方向磁场线圈电流初始值的差值小于设定阈值,且Z方向磁场线圈电流设定值与Z方向磁场线圈电流初始值的差值小于设定阈值,则三个方向均匀场成功;否则,将X方向磁场线圈电流初始值设定为X方向磁场线圈电流设定值,将Y方向磁场线圈电流初始值设定为Y方向磁场线圈电流设定值,将Z方向磁场线圈电流初始值设定为Z方向磁场线圈电流设定值,返回步骤2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院武汉物理与数学研究所,未经中国科学院武汉物理与数学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810276922.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top