[发明专利]气体筛选膜及其制造方法和面罩有效
| 申请号： | 201810253024.6 | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN110354691B | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 李广耀;袁广才;王东方;汪军;王庆贺;李伟;程磊磊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D61/44;B01D53/22;B01D53/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种气体筛选膜，所述气体筛选膜包括至少一个气体筛选元件，所述气体筛选元件形成为包括栅极、绝缘间隔层、第一电极、半导体纳米片分离层和第二电极的晶体管，所述栅极与所述半导体纳米片分离层之间设置有所述绝缘间隔层。本发明还提供一种气体筛选膜的制造方法和一种面罩。所述气体筛选膜可以根据需求对多种不同的气体进行筛分。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 筛选 及其 制造 方法 面罩 | ||
【主权项】：
1.一种气体筛选膜，其特征在于，所述气体筛选膜包括至少一个气体筛选元件，所述气体筛选元件形成为包括栅极、绝缘间隔层、第一电极、半导体纳米片分离层和第二电极的晶体管，所述栅极与所述半导体纳米片分离层之间设置有所述绝缘间隔层。
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