[发明专利]多孔薄膜观测窗口在审
申请号: | 201810245516.0 | 申请日: | 2018-03-23 |
公开(公告)号: | CN108169234A | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 胡慧珊;温赛赛;马硕;王新亮 | 申请(专利权)人: | 苏州原位芯片科技有限责任公司 |
主分类号: | G01N21/84 | 分类号: | G01N21/84;G01N21/01;G01N23/22 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 李明 |
地址: | 215123 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种多孔薄膜观测窗口,包括:衬底,其包括相对设置的第一表面和第二表面;预定厚度的薄膜,其设置在所述第一表面和所述第二表面上,所述薄膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸一致;所述衬底上还设置有贯穿所述第一表面和所述第二表面的观测凹槽;并且,所述观测凹槽还贯穿位于所述第一表面或所述第二表面上的所述薄膜;未被所述观测凹槽贯穿的薄膜上间隔设置有多个贯穿该薄膜的通孔,所述通孔与所述观测凹槽相对应,以通过各所述通孔观测样品。本发明的多孔薄膜观测窗口,可以通过所设置的通孔,观测延伸出该通孔或架于该通孔上方的部分样品,实现对样品的高分辨率成像。 1 | ||
搜索关键词: | 通孔 薄膜 第二表面 第一表面 观测 多孔薄膜 观测窗口 衬底 贯穿 高分辨率成像 尺寸一致 观测样品 间隔设置 相对设置 延伸 | ||
【主权项】:
1.一种多孔薄膜观测窗口,其特征在于,包括:
衬底,其包括相对设置的第一表面和第二表面;
预定厚度的薄膜,其设置在所述第一表面和所述第二表面上,所述薄膜的形状和尺寸与所述衬底的形状和尺寸一致;
所述衬底上还设置有贯穿所述第一表面和所述第二表面的观测凹槽;并且,所述观测凹槽还贯穿位于所述第一表面或所述第二表面上的所述薄膜;
未被所述观测凹槽贯穿的薄膜上间隔设置有多个贯穿该薄膜的通孔,所述通孔与所述观测凹槽相对应,以通过各所述通孔观测样品。
2.根据权利要求1所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,未被所述观测凹槽贯穿的薄膜上还设置有多个坐标标识,各所述坐标标识对应一个或多个所述通孔。3.根据权利要求2所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,所述多个通孔呈阵列排布,并且,所述通孔的尺寸小于所述样品的尺寸。4.根据权利要求3所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,被所述观测凹槽所贯穿的所述薄膜划分成四个象限区域,各象限区域内均阵列分布有多个所述通孔。5.根据权利要求4所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,各象限区域内划分有四个子象限区域,各子象限区域内均阵列分布有多个所述通孔,并且,各子象限区域内均设置有至少一个所述坐标标识。6.根据权利要求5所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,各子像素区域内的各所述通孔之间的距离为0.1~100μm。7.根据权利要求5所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,各所述通孔的直径为0.1~100μm。8.根据权利要求1至7中任意一项所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,所述观测凹槽的尺寸为0.05~20mm。9.根据权利要求1至7中任意一项所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,所述薄膜的预定厚度为1‑500nm;和/或,所述薄膜的制作材料包括硅、氮化硅、氧化硅和碳化硅中的任意一者。
10.根据权利要求1至7中任意一项所述的多孔薄膜观测窗口,其特征在于,所述衬底的厚度为50‑1000um;和/或,所述衬底为N型或P型单晶硅。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州原位芯片科技有限责任公司,未经苏州原位芯片科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810245516.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种微生物抗性鉴定装置
- 下一篇:一种原位光学测试高温高压炉