[发明专利]一种结构光投影模组和深度相机有效
| 申请号： | 201810244960.0 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN108594453B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 许星 | 申请（专利权）人： | 深圳奥比中光科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42 |
| 代理公司： | 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程丹 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种结构光投影模组及深度相机，结构光投影模组包括：光源阵列，可独立控制的第一子光源阵列与第二子光源阵列，第一/二子光源阵列包括以第一/二二维图案形式排列的多个子光源，用于发射与第一/二二维图案相对应的第一/二子阵列光束；透镜，接收并汇聚第一和/或二子阵列光束；衍射光学元件，接收经透镜汇聚后出射的第一和/或第二子阵列光束，投射出与第一和/或第二子阵列光束对应的第一和/或第二次结构光斑点图案化光束；次结构光斑点图案由多个子光源产生的多个子斑点图案平铺排列而成。该方案既保证了结构光图案的不相关度与密度均匀分布，还可以产生投影区域和密度不同的结构光斑点图案，应用更广泛。 | ||
| 搜索关键词： | 子阵列 结构光投影 光斑 点图案 子光源 模组 透镜 深度相机 次结构 图案形式排列 衍射光学元件 汇聚 结构光图案 斑点图案 不相关度 独立控制 光源产生 光源阵列 密度均匀 平铺排列 投影区域 投射 出射 光源 图案 发射 应用 保证 | ||
【主权项】：
1.一种结构光投影模组，其特征在于，包括：/n光源阵列，包括可独立控制的第一子光源阵列与第二子光源阵列，所述第一/二子光源阵列包括以第一/二二维图案形式排列的多个子光源，用于发射与所述第一/二二维图案相对应的第一/二子阵列光束；/n透镜，接收并汇聚所述第一和/或二子阵列光束；/n衍射光学元件，接收经所述透镜汇聚后出射的所述第一和/或第二子阵列光束，并投射出与所述第一和/或第二子阵列光束对应的第一和/或第二次结构光斑点图案化光束；/n其中，所述次结构光斑点图案由所述多个子光源中的部分子光源产生的多个子斑点图案平铺排列而成，所述子斑点图案由单个所述子光源经衍射光学元件衍射后形成的不同衍射级数的斑点组成，所述子斑点图案的边缘与基线方向不一致，且相互耦合。/n
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