[发明专利]曝光系统和曝光机载台在审
| 申请号： | 201810240544.3 | 申请日： | 2018-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN108415224A | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 王文涛;史大为;王培;杨璐;徐海峰;王子峰;李峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种曝光系统和曝光机载台，涉及显示技术领域，主要目的是减轻Chuck Mura的产生。该曝光系统包括：曝光机载台，所述曝光机载台包括载台基体以及设置于所述载台基体上的凸起；衬底基板，所述衬底基板设置于所述凸起上，且与所述凸起接触；所述凸起由透明材质制成；或者，所述衬底基板中与所述凸起接触的一侧设置有不透光层。该曝光系统主要用于制作显示面板的曝光工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 凸起 曝光系统 衬底基板 曝光 不透光层 曝光工艺 台本发明 透明材质 显示面板 台基体 载台 制作 | ||
【主权项】：
1.一种曝光系统，其特征在于，包括：曝光机载台，所述曝光机载台包括载台基体以及设置于所述载台基体上的凸起；衬底基板，所述衬底基板设置于所述凸起上，且与所述凸起接触；所述凸起由透明材质制成；或者，所述衬底基板中与所述凸起接触的一侧设置有不透光层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810240544.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
