[发明专利]一种量子点膜及其制备方法、背光源、显示装置在审
| 申请号： | 201810228786.0 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108240609A | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 张金风;吴芳芳;施晓春;许海峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | F21V9/30 | 分类号： | F21V9/30;F21V31/04 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开了一种量子点膜及其制备方法、背光源、显示装置，用以避免量子点膜裁切边缘的量子点失效，从而避免显示产品蓝边，提高显示效果，提升用户体验。本申请实施例提供的一种量子点膜制备方法，该方法包括：形成量子点基膜；裁切所述量子点基膜形成多个所需尺寸的量子点膜；在所述量子点膜的裁切边缘形成密封结构。 | ||
| 搜索关键词： | 量子点 裁切 显示装置 背光源 基膜 制备 边缘形成 密封结构 显示产品 显示效果 用户体验 膜制备 蓝边 申请 | ||
【主权项】：
1.一种量子点膜制备方法，其特征在于，该方法包括：形成量子点基膜；裁切所述量子点基膜形成多个所需尺寸的量子点子膜；在所述量子点膜的裁切边缘形成密封结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810228786.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种自然光聚光导光结构
- 下一篇：一种蓝光转换膜及其制备方法和应用
