[发明专利]一种耐酸性光控荧光分子开关及其合成方法和应用有效

专利信息
申请号: 201810217595.4 申请日: 2018-03-16
公开(公告)号: CN110272637B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 徐兆超;祁清凯 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: C07D491/107 分类号: C07D491/107;C09B11/12;C09K11/06;G01N21/64
代理公司: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 代理人: 郑虹
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供了一种耐酸性光控荧光分子开关及其合成方法和应用,该分子开关具体分子结构以3‑伯胺或仲胺取代的罗丹明螺酰胺为基本结构单元,其结构式如(1)所示。本发明的耐酸性光控荧光分子开关应用在超分辨荧光成像、分子探针、荧光传感及其他领域。本发明的3‑伯胺或仲胺取代罗丹明螺酰胺不仅具有耐酸的性能,而且保留了光控分子开关性能。因此这类耐酸性光控荧光分子开关可以应用于基于单分子定位的超分辨成像技术中,且不受生物环境中pH的干扰。此外,本发明的耐酸光控荧光分子开关还可以作为分子荧光探针应用于传感及检测领域。
搜索关键词: 一种 耐酸 光控 荧光 分子 开关 及其 合成 方法 应用
【主权项】:
1.一种耐酸性光控荧光分子开关,其特征在于该分子开关结构式如下所示:其中:R1、R2、R3、R4、R5是相同或不同的基团,为CmH2m+1、CmH2m‑1、CmH2m‑3、C6+mH5+2m、CmH2m+1CO、CmH2m+1SO2或CmH2m+1PhSO2中的任一基团;m是1~20之间的整数;X为O、C、Si、Ge、S或SO2基团;Y为H、SO3Na;Z是CmH2m+1、CmH2m‑1、CmH2m‑3、C6+mH5+2m、(C2H4O)mCH3或(C2H4O)mOH、CmH2m(C4H8NO)、或其带有单个或多个二级取代基团的衍生结构;m是1~20之间的整数,其中,二级取代基团是F、Cl、Br、I、R6、CA0A13、CA0A1A2A3、NO2、OR6、SR6、SO2R6、SOR6、SO3R6、NHR6、NR6R7、CHO、CH2OR6、CO2R6、OCOR6、OCOCH2R6、CHBCHO、CB2CHO、CHBCO2R6或CHBOR6中任何一种基团;A0、A1、A2、A3和B是相同或不同的基团,为H、F、Cl、Br、I、NO2、OR6、SR6、NHR6、NR6R7、(CH2)mCHO、(CH2)mCO2R6或R6中的任何一种基团;R6和R7是相同或不同的基团,为H、CmH2m+1、CmH2m‑1、CmH2m‑3、C6+mH5+2m中的任一基团;m是1~20之间的整数。
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