[发明专利]增材制造过程中相邻沉积层横截面的识别方法有效
| 申请号： | 201810213698.3 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108339981B | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 韦海英;刘文;黄矗;张屹 | 申请（专利权）人： | 湖南大学 |
| 主分类号： | B22F3/105 | 分类号： | B22F3/105;B22F7/02;B33Y50/00 |
| 代理公司： | 43113 长沙正奇专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 马强;胡凌云 |
| 地址： | 410082 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明涉及增材制造过程中相邻沉积层横截面的识别方法，通过增材制造设备以粉末A为原料沉积N层后，改用粉末B为原料在先前的沉积层上制备新的沉积层；制样，通过显微镜获取新的沉积层与先前的沉积层之间的界线；其中，N为正整数；所述粉末B包括粉末A和晶粒调整剂。通过本发明的方法可简单、快捷地确定相邻沉积层之间的界面轮廓，并进一步获取新的沉积层的横截面面积；且识别过程中所用设备均为常见设备，无需额外添置专用设备，实施成本低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积层 制造过程 晶粒 界面轮廓 所用设备 制造设备 专用设备 调整剂 正整数 制样 显微镜 沉积 制备 界线 | ||
【主权项】：
1.增材制造过程中相邻沉积层横截面的识别方法，其特征在于，通过增材制造设备以粉末A为原料沉积N层的沉积层后，改用粉末B为原料在先前沉积的该N层沉积层的表层上制备新的沉积层；制样，通过显微镜获取所述新的沉积层与先前沉积的沉积层之间的界线；/n其中，N为正整数；所述粉末B包括粉末A和晶粒调整剂；所述晶粒调整剂包括稀土氧化物和/或碳化钨；所述稀土氧化物包括氧化镧和/或氧化铈。/n
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