[发明专利]低损铜纳米粗化剂在审
| 申请号： | 201810212563.5 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108425114A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 冯献超;冯泽宪;唐瑞泽 | 申请（专利权）人： | 昆山长优电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 杨晓玲 |
| 地址： | 215341 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低损铜纳米粗化剂，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：无机酸：1～10％；氧化剂：1～10％；表面活性剂：0.1～2％；络合剂：0.1～5％；水：余量。本发明可大大降低粗化剂对铜面的咬噬量，铜面微蚀量达到200纳米即可保证铜面与干膜、阻焊膜结合力，可提高制程品质和可靠性，减少对铜的损耗量及药液排放量，降低镀铜成本及药水成本，减轻废水处理压力。 | ||
| 搜索关键词： | 粗化 铜面 氧化剂 表面活性剂 废水处理 结合力 络合剂 排放量 损耗量 无机酸 阻焊膜 药水 镀铜 干膜 微蚀 制程 保证 | ||
【主权项】：
1.一种低损铜纳米粗化剂，其特征在于包括以下各组分且各组分重量百分含量为：无机酸：1～10％；氧化剂：1～10％；表面活性剂：0.1～2％；络合剂：0.1～5％；水：余量。
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