[发明专利]一种噻嗪低聚物及制备方法、包含该噻嗪低聚物的石墨烯研磨分散液以及感光组合物与应用有效
| 申请号： | 201810195722.5 | 申请日： | 2018-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN108610305B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 高振先;邱文博;任广辅;钟美弟;廖江华;雷立猛 | 申请（专利权）人： | 深圳烯旺科技有限公司 |
| 主分类号： | C07D279/06 | 分类号： | C07D279/06;C07D417/12;G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 齐则琳;张雷 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种噻嗪低聚物，其是石墨烯分子晶体的良好的研磨稳定剂和防腐涂加剂，本发明同时公开了该噻嗪低聚物的制备方法、包含该噻嗪低聚物的石墨烯研磨分散液以及感光组合物与应用。该噻嗪低聚物作为一种新型的稳定、防腐添加物，能有效防止石墨烯分子晶体团聚，包含该噻嗪低聚物的感光组物可在基材上形成附着力强的功能保护层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 噻嗪低聚物 制备 方法 包含 石墨 研磨 分散 以及 感光 组合 应用 | ||
【主权项】：
1.一种噻嗪低聚物，其特征在于，具有下列式I的结构单元：![]()
其中，R1＝Me或H，R2＝Me或H，R3为直链烷基或其衍生基团、芳基或其衍生基团；n＝1或2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳烯旺科技有限公司，未经深圳烯旺科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810195722.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
