[发明专利]一种用于修复玻璃基板的材料、用于修复玻璃基板的方法和阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 201810177550.9 | 申请日： | 2018-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN108388036B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 张东徽;尹浩;陈川;马小叶 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;C03C17/25;C03C17/22 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 牛南辉;李峥 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种用于修复玻璃基板的材料、用于修复玻璃基板的方法和阵列基板的制造方法。所述材料包括SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 修复 玻璃 材料 方法 阵列 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于修复玻璃基板的材料，其中，所述材料包括SiO2溶胶。
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