[发明专利]一种偏振无关宽角度石墨烯吸收器在审
申请号: | 201810156239.6 | 申请日: | 2018-02-24 |
公开(公告)号: | CN108363126A | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 郑改革;邹秀娟 | 申请(专利权)人: | 南京信息工程大学 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00 |
代理公司: | 南京钟山专利代理有限公司 32252 | 代理人: | 戴朝荣 |
地址: | 210044 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种偏振无关宽角度石墨烯吸收器,该石墨烯吸收器包括金属基底以及设置在金属基底上的多层光栅脊,多层光栅脊为自上而下依次叠置的上石墨烯层、上电介质层、下石墨烯层和下电介质层构成的光栅结构;上石墨烯层、上电介质层、下石墨烯层和下电介质层均为长宽相同的长方形片体,并且上石墨烯层的厚度和下石墨烯层的厚度相同且小于上电介质层的厚度;下电介质层的厚度大于上电介质层的厚度;当正入射光以TE偏振方式入射到多层光栅脊上时,多层光栅脊作为一个共振腔,入射光与多层光栅脊、金属基底相互作用产生腔模式共振,引起光吸收增强;当正入射光以TM偏振方式入射到多层光栅脊上时,入射光在下层电介质层与金属基底的界面处产生磁共振。 | ||
搜索关键词: | 光栅 石墨烯层 多层 上电介质层 金属基 下电介质层 石墨烯 吸收器 偏振无关 入射光 正入射 入射 下层电介质层 长方形片体 光栅结构 磁共振 共振腔 光吸收 界面处 共振 叠置 | ||
【主权项】:
1.一种偏振无关宽角度石墨烯吸收器,所述的石墨烯吸收器包括金属基底(1)以及设置在该金属基底上的多层光栅脊(2),其特征是:所述的多层光栅脊(2)为自上而下依次叠置的上石墨烯层(21)、上电介质层(22)、下石墨烯层(23)和下电介质层(24)构成的光栅结构;所述的上石墨烯层(21)、上电介质层(22)、下石墨烯层(23)和下电介质层(24)均为长宽相同的长方形片体,并且所述的上石墨烯层(21)的厚度和下石墨烯层(23)的厚度相同,且小于上电介质层(22)的厚度;所述的下电介质层(24)的厚度大于所述上电介质层(22)的厚度;当正入射光以TE偏振方式入射到多层光栅脊(2)上时,所述的多层光栅脊(2)作为一个共振腔,入射光与多层光栅脊(2)、金属基底(1)相互作用产生腔模式共振,引起光吸收增强;当正入射光以TM偏振方式入射到多层光栅脊(2)上时,入射光在下层电介质层(24)与金属基底(1)的界面处产生磁共振。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京信息工程大学,未经南京信息工程大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810156239.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种透镜及其制作方法
- 下一篇:一种表面等离激元双焦点透镜