[发明专利]用于执行曝光处理的装置

摘要

本发明公开了一种用于执行曝光处理的装置，包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；光源组件、投影组件和承载台均设置于曝光腔室内；光源组件用于产生曝光光线；支撑框架包括第一、第二移动框架以及具有正交的第一、第二枢轴的转动构件；支撑框架包括第一、第二和第三臂体；第一移动框架用于从第一臂体的基端部分转动到第二移动框架的基端部分；转动构件具有第一、第二转动部分；光源组件的头部主体安装于第二转动部分；头部主体内置有用于向振动体施加超声波振动作用力的振动发生器，振动体与头部主体相连接。本发明能使得器件中受到曝光处理的部分和未受到曝光处理的部分之间的界线模糊化。

主权项

1.一种用于执行曝光处理的装置，其特征在于，所述用于执行曝光处理的装置包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架；所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内；所述光源组件用于产生曝光光线，并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件；所述支撑框架的基端部连接所述固定支撑件，并且所述支撑框架的末端部连接所述光源组件，所述支撑框架包括第一移动框架、第二移动框架以及具有正交的第一枢轴、第二枢轴的转动构件；所述支撑框架包括第一臂体、第二臂体和第三臂体；所述第一移动框架用于从所述第一臂体的基端部分转动到所述第二移动框架的基端部分；安装在所述第二移动框架的前端部的所述转动构件具有相对于所述转动构件的基座以所述第一枢轴为中心转动的第一转动部分，以及相对于所述第一转动部分围绕所述第二枢轴转动的第二转动部分；所述光源组件的头部主体安装于所述第二转动部分；所述头部主体内置有用于向由所述头部主体的壳体主体保持的振动体施加超声波振动作用力的振动发生器，所述振动体与所述头部主体相连接。