[发明专利]一种Gamma自动调整的方法和系统有效
| 申请号： | 201810136133.X | 申请日： | 2018-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN108490652B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 徐正兴 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种Gamma自动调整的方法和系统，所述方法包括以下步骤：在液晶面板光配向过程中，先获取各工艺站点中影响Gamma值的主影响因子的参数，其中，所述Gamma值在预设范围内；当检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，调用Gamma模型；所述Gamma模型根据检测到的所述主影响因子的变动参数计算所述主影响因子的调整参数，并将所述调整参数输出至UV照射机台；所述UV照射机台根据所述调整参数照射所述液晶面板，使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 gamma 自动 调整 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种Gamma自动调整的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤S1、在液晶面板光配向过程中，获取各工艺站点中影响Gamma值的主影响因子的参数，其中，所述Gamma值在预设范围内；步骤S2、当检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，调用Gamma模型；步骤S3、所述Gamma模型根据检测到的所述主影响因子的变动参数计算所述主影响因子的调整参数，并将所述调整参数输出至UV照射机台；步骤S4、所述UV照射机台根据所述调整参数照射所述液晶面板，使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。
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