[发明专利]一种基底吸附装置、光刻设备及吸附方法在审
| 申请号： | 201810113746.1 | 申请日： | 2018-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN110119069A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 蔡晨;齐芊枫;王鑫鑫 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基底吸附装置、光刻设备及吸附方法，其中，吸附装置包括吸附机构，以及与吸附机构相对设置的整形机构，吸附机构和整形机构之间形成基底容纳空间；吸附机构包括吸盘，吸盘表面上分布有多个吸气孔，吸盘用于从第一侧吸附基底容纳空间内的基底；整形机构用于从与第一侧相对的第二侧对基底容纳空间内的基底作用，以与吸盘配合对基底容纳空间内的基底进行整平。本发明实施例通过设置与吸附机构相对的整形机构，吸附机构通过吸盘上的吸气孔，吸附基底片，整形机构与吸盘配合对基底进行整平，使基底完全吸附在吸盘上，实现了对大翘曲量基底的整平及完全吸附，提高了基底曝光质量和良率，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 吸盘 吸附机构 吸附 整形机构 容纳空间 吸附装置 整平 光刻设备 吸气孔 基底曝光 基底作用 生产效率 吸盘表面 相对设置 基底片 翘曲量 良率 配合 | ||
【主权项】：
1.一种基底吸附装置，其特征在于，包括：吸附机构，以及与所述吸附机构相对设置的整形机构，所述吸附机构和所述整形机构之间形成基底容纳空间；所述吸附机构包括吸盘，所述吸盘表面上分布有多个吸气孔，所述吸盘用于从第一侧吸附所述基底容纳空间内的基底；所述整形机构用于从与所述第一侧相对的第二侧对所述基底容纳空间内的基底作用，以与所述吸盘配合对所述基底容纳空间内的基底进行整平。
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