[发明专利]包含非离子表面活性剂和碳酸盐的化学机械抛光组合物在审
| 申请号： | 201810111285.4 | 申请日： | 2013-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN108178988A | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | R·赖夏特;Y·李;M·劳特尔;W·L·W·基乌 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李小梅;刘金辉 |
| 地址： | 德国莱茵河*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 化学机械抛光组合物，包含：(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒为茧状，(B)非离子表面活性剂，(C)碳酸盐或碳酸氢盐，(D)醇，和(M)含水介质。还提供了制备半导体装置的方法，所述方法包括在CMP组合物存在下将在半导体工业中使用的基底化学机械抛光，及其CMP组合物的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 碳酸盐 化学机械抛光组合物 非离子表面活性剂 制备半导体装置 化学机械抛光 半导体工业 含水介质 碳酸氢盐 无机颗粒 有机颗粒 混合物 复合物 基底 茧状 | ||
【主权项】：
1.化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，包含：(A)茧状二氧化硅颗粒，(B)非离子表面活性剂，(C)碳酸盐或碳酸氢盐，其量基于组合物(Q)的总重量为0.001‑1重量％，(D)醇，(G)作为螯合剂的对苯二甲酸，和(M)含水介质，并且非离子表面活性剂(B)为两亲性非离子聚氧化乙烯‑聚氧化丙烯烷基醚表面活性剂，其为平均含有具有10‑16个碳原子的烷基以及无规分布的5‑20个氧化乙烯单体单元(b21)和2‑8个氧化丙烯单体单元(b22)的分子的混合物。
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