[发明专利]显示装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201810101781.1 | 申请日： | 2018-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN108267852B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 王明超 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种显示装置及其制造方法，属于显示技术领域。显示装置包括：承载基板，以及阵列设置在承载基板上的多个显示单元和多个控制单元，多个显示单元与多个控制单元一一对应，每个显示单元用于反射一种颜色的光；每个显示单元包括：沿远离承载基板方向依次平行设置的第一反射层和第二反射层，第一反射层包括沿远离承载基板方向依次设置的形状记忆层和反射膜层，第二反射层包括衬底基板以及设置在衬底基板上的半透半反膜层；其中，每个控制单元用于改变对应的显示单元中的形状记忆层的厚度以调节第一反射层与第二反射层的间隔。本发明解决了相关技术中IMOD器件的结构较复杂，制造工艺繁复的问题。本发明用于显示装置的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：承载基板，以及阵列设置在所述承载基板上的多个显示单元和多个控制单元，所述多个显示单元与所述多个控制单元一一对应，每个所述显示单元用于反射一种颜色的光；每个所述显示单元包括：沿远离所述承载基板方向依次平行设置的第一反射层和第二反射层，所述第一反射层包括沿远离所述承载基板方向依次设置的形状记忆层和反射膜层，所述第二反射层包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的半透半反膜层；其中，每个所述控制单元用于改变对应的显示单元中的所述形状记忆层的厚度以调节所述第一反射层与所述第二反射层的间隔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810101781.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
