[发明专利]一种电场-流场混合控制的电流体喷印方法及装置有效
| 申请号： | 201810097007.8 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108340681B | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 黄永安;刘宇 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | B41J2/145 | 分类号： | B41J2/145;B41J2/07 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 李智;曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电场‑流场混合控制的电流体喷印方法及装置，属于微纳制造技术领域。本发明的方法及装置中的喷头出口管为毛细管，在毛细管下方设置具有倒角的流体出口；毛细管周围的流体在流体出口的倒角作用下，在喷头的下方形成聚焦式的稳定的流体流场；接地电极置于流体出口下方，且接地电极上设有与流体出口同轴布置的通孔；在喷头和接地电极之间施加高压静电场，毛细管内流出的电流体在高压静电场和流体流场的共同作用下形成泰勒锥并拉出射流，射流穿过流体出口和通孔进行打印。本发明将电流体喷印技术和流动聚焦技术结合，提高打印精度和分辨率，并克服常规电流体喷印无法在绝缘基板或者自由曲面的基板上进行打印的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 流体出口 电流体 毛细管 喷印 接地电极 喷头 打印 高压静电场 电场 混合控制 流体流场 倒角 流场 射流 通孔 聚焦技术 绝缘基板 喷头出口 同轴布置 聚焦式 泰勒锥 自由曲 分辨率 基板 拉出 流体 流出 穿过 施加 流动 制造 | ||
【主权项】：
1.一种电场‑流场混合控制的电流体喷印方法，其特征在于，喷头出口管为毛细管，在毛细管下方设置具有倒角的流体出口，倒角位于毛细管所在侧；毛细管周围的流体在流体出口的倒角作用下，在喷头的下方形成聚焦式的稳定的流体流场；接地电极置于流体出口下方，且接地电极上设有与流体出口同轴布置的通孔；在喷头和接地电极之间施加高压静电场，在高压静电场和流体流场的共同作用下，毛细管内流出的电流体形成泰勒锥；高压静电场和流体流场从泰勒锥尖端拉出射流，射流穿过流体出口和通孔进行打印；流体出口的倒角角度、毛细管管口外部倒角角度取值范围均为[20°,60°]，毛细管管口到流体出口的距离为[200μm,10cm]；通过改变流体出口的倒角角度、毛细管管口外部倒角角度以及毛细管管口到流体出口的距离中的至少一个，以形成不同流场形式的聚焦流场，从而调节射流的流速和分散度。
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