[发明专利]掩模清洗液组合物在审
| 申请号： | 201810073872.9 | 申请日： | 2018-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108424818A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 金圣植;金正铉;房淳洪;高京俊;赵汉爀 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;C11D7/50;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;钟海胜 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： |
本发明提供一种掩模清洗液组合物，其特征在于，包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物，下述化学式1中，R1和R2各自独立地为甲基或乙基，R3为氢、或者被C1～C4的烷氧基取代或非取代的C1～C4的饱和或不饱和烃基，其中，当R1和R2为甲基时，R3为被C1～C4的烷氧基取代或非取代的C2～C4的饱和烃基或C2～C4的不饱和烃基。本发明的掩模清洗液组合物具有即使不包含NMP之类的环境管制物质也能显示良好的清洗力而易于工序运转的优点。化学式1 |
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| 搜索关键词： | 清洗液组合物 掩模 不饱和烃基 烷氧基取代 非取代 酰胺系化合物 甲基或乙基 饱和烃基 环境管制 清洗力 饱和 运转 | ||
【主权项】：
1.一种掩模清洗液组合物，其包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物：化学式1![]()
所述化学式1中，R1和R2各自独立地为甲基或乙基，R3为氢、或者被C1～C4的烷氧基取代或非取代的C1～C4的饱和或不饱和烃基，其中，当R1和R2为甲基时，R3为被C1～C4的烷氧基取代或非取代的C2～C4的饱和烃基或C2～C4的不饱和烃基。
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