[发明专利]掩模清洗液组合物

说明书

本发明提供一种掩模清洗液组合物，其特征在于，包含下述化学式1所表示的酰胺系化合物，下述化学式1中，R1和R2各自独立地为甲基或乙基，R3为氢、或者被C1～C4的烷氧基取代或非取代的C1～C4的饱和或不饱和烃基，其中，当R1和R2为甲基时，R3为被C1～C4的烷氧基取代或非取代的C2～C4的饱和烃基或C2～C4的不饱和烃基。本发明的掩模清洗液组合物具有即使不包含NMP之类的环境管制物质也能显示良好的清洗力而易于工序运转的优点。化学式1

技术领域

本发明涉及掩模清洗液组合物，具体而言，涉及用于去除真空蒸镀工序中所使用的掩模上的各种有机物的掩模清洗液组合物。

背景技术

平板显示器(flat panel display，FPD)作为显示装置受到关注，其中，液晶显示装置和有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)成为关注对象。

目前，作为显示器最常用的液晶显示装置具有比以往的阴极射线管(Cathode raytube；CRT)轻、体积小且低耗电等优点。但是存在如下缺点：由于不是自发光，因此需要使用背光(Backlight)，且因使用液晶而视角受限。

与此相对，OLED元件具有驱动电压低、发光效率高、视角宽、响应速度快等优点，尤其由于是自发光型，因而具有不需要背光等优点。这样的OLED元件通过使用自发光的发光有机物，从而由阴极和阳极供给的电子和空穴再结合而发出光。

对于这样的OLED之类的半导体设备或平板显示器而言，为了在制造工序中形成各种发光层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层等有机物层，会利用掩模来实施有机物的蒸镀。此时，有机物也附着于掩模的表面，由于这样附着的有机物，通过掩模形成的图案的形状可能会变形。这会导致蒸镀工序的效率降低，对所制造的半导体设备或平板显示器的性能也可能造成影响，因此有必要去除蒸镀于掩模的有机物。

韩国公开专利第2011-0095814号涉及一种蒸镀材料清洗液组合物和利用该蒸镀材料清洗液组合物的清洗方法，公开了涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮(N-Methyl-2-pyrrolidone)和1,3-二甲基-2-咪唑啉酮(1,3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的蒸镀材料清洗液组合物的内容。

韩国公开专利第1388283号涉及一种掩模清洗装置，公开了涉及具有如下特征的掩模清洗装置的内容，即，包含：产生超声波而清洗浸没于清洗液的掩模的超声波清洗部；用于排出和供给上述超声波清洗部的清洗液的清洗液循环部，上述超声波清洗部中的超声波的频率为75KHz以上90KHz以下，强度为800W以上1100W以下，上述清洗液为N-甲基吡咯烷酮(N-Methyl Pyrrolidinone；NMP)混合物。

但是，以往掩模清洗液中所使用的N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)为有毒物质，具体而言，根据国立环境科学院第2014-25号，其是含有0.3重量％以上时被分类为有毒物的物质。使用包含NMP的掩模清洗液的情况下，不仅对人体有害，而且在环境方面也不佳。

此外，掩模清洗工序根据制造工序状况而确定运转时间，因此不应当在大气状态下长期保存后发生性能降低。特别是由于露出于大气中，因此不应当因水分吸收而发生性能降低。

由此，要求开发即使不包含NMP之类的环境管制物质清洗力也优异、不发生因水分吸收而导致的性能降低、易于工序运转的掩模清洗液。

现有技术文献

专利文献

韩国公开专利第2011-0095814号(2011.08.25.)

韩国公开专利第1388283号(2014.04.16.)

发明内容

所要解决的课题