[发明专利]新型双极化低通带吸型频率选择结构有效

专利信息
申请号: 201810048246.4 申请日: 2018-01-18
公开(公告)号: CN108365306B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 罗国清;俞伟良;俞钰峰;张晓红;代喜望 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01Q15/00;H01Q17/00;H01Q1/42;H01Q1/34
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 黄前泽
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及新型双极化低通带吸型频率选择结构。传统的吸波性频率选择结构都采用带通型频率选择结构,此类结构通带带宽有限,并且很难覆盖低频。本发明采用单环反射平面,结合单环电路模拟吸收器,搭建出双极化低通带吸型频率选择结构,能够实现低频通带内低插入损耗,并在临近高频处产生一个较宽的吸波带。
搜索关键词: 新型 极化 低通带吸型 频率 选择 结构
【主权项】:
1.新型双极化低通带吸型频率选择结构,为周期性分布结构,其特征在于每个结构单元垂直设置,包括带阻反射面和吸波面;吸波面与带阻反射面前后平行设置,且吸波面和带阻反射面之间留有一段空气间隙;所述的吸波面包括第一介质基片、以及镀在第一介质基片其中一表面的第一金属环;所述的第一金属环为封闭环形结构,边长小于第一介质基片的两轴长度,金属环的四边中心处分别焊接有一个射频电阻;所述的带阻反射面包括第二介质基片、以及镀在第二介质基片其中一表面的第二金属环;所述的第二金属环为封闭环形结构,边长小于第二介质基片两轴长度;上述的第一、二金属环与第一、二介质基片的中心重叠。
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