[发明专利]新型双极化低通带吸型频率选择结构有效

专利信息
申请号: 201810048246.4 申请日: 2018-01-18
公开(公告)号: CN108365306B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 罗国清;俞伟良;俞钰峰;张晓红;代喜望 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01Q15/00;H01Q17/00;H01Q1/42;H01Q1/34
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 黄前泽
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 新型 极化 低通带吸型 频率 选择 结构
【权利要求书】:

1.新型双极化低通带吸型频率选择结构,为周期性分布结构,吸波带频段范围为4-7GHz,相对带宽为54.5%,其特征在于每个结构单元垂直设置,包括带阻反射面和吸波面;吸波面与带阻反射面前后平行设置,且吸波面和带阻反射面之间留有一段空气间隙;

所述的吸波面包括第一介质基片、以及镀在第一介质基片其中一表面的第一金属环;所述的第一金属环为封闭环形结构,边长小于第一介质基片的两轴长度,金属环的四边中心处分别焊接有一个射频电阻;

所述的带阻反射面包括第二介质基片、以及镀在第二介质基片其中一表面的第二金属环;所述的第二金属环为封闭环形结构,边长小于第二介质基片两轴长度;

上述的第一、二金属环与第一、二介质基片的中心重叠;

吸波面和带阻反射面之间的空气间隙的距离ha = 9.4 mm;

第一、二金属环的尺寸完全相同,金属环的边长dl = 14.5 mm;

第一介质基片和第二介质基片的介质厚度ts= 0.508 mm;

所述的射频电阻阻值相同,阻值R = 370 ohm。

2.如权利要求1所述的新型双极化低通带吸型频率选择结构,其特征在于吸波面和带阻反射面之间的空气间隙距离小于带阻反射面反射频率对应的波长的四分之一。

3.如权利要求1所述的新型双极化低通带吸型频率选择结构,其特征在于所述的射频电阻阻值相同。

4.如权利要求1所述的新型双极化低通带吸型频率选择结构,其特征在于所述的第一、二介质基片的尺寸完全相同。

5.如权利要求1所述的新型双极化低通带吸型频率选择结构,其特征在于所述的第一、二金属环的尺寸完全相同。

6.如权利要求1所述的新型双极化低通带吸型频率选择结构,其特征在于第二金属环谐振产生带阻特性,该带阻频率是由第二金属环的尺寸决定的。

7.如权利要求1所述的新型双极化低通带吸型频率选择结构,其特征在于中间空气间隙的距离与第二金属环谐振频点设计有关。

8.如权利要求1所述的新型双极化低通带吸型频率选择结构,其特征在于带阻反射面上的第二金属环谐振反射对应频段的电磁波,产生传输零点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810048246.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top