[发明专利]一种光刻机滤光片的中心波长优化方法在审
| 申请号： | 201810045626.2 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN108227405A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 方凤云;黄凯;胡坤 | 申请（专利权）人： | 上海矽越光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200426 上海市宝山*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机滤光片的中心波长优化方法，步骤如下：a、将所述滤光片安装在角度调节装置上；b、启动所述角度调节装置，使滤光片旋转一个角度。本发明通过改变窄带滤光片在光刻机中摆放的角度，可以改变中心波长达到6nm，只要出厂的时候，提供窄带滤光片安装在光刻机中需要偏转的角度，就可以使得中心波长大于365nm的窄带滤光片在光刻机中达到中心波长在365nm附近的效果，同时也可以使得光刻机在使用滤光片的时候获得最大的效能比。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻机 中心波长 滤光片 窄带滤光片 角度调节装置 偏转 优化 出厂 摆放 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机滤光片的中心波长优化方法，其特征在于，步骤如下：将所述滤光片安装在角度调节装置上；启动所述角度调节装置，使滤光片旋转一个角度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海矽越光电科技有限公司，未经上海矽越光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810045626.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
