[发明专利]一种无掩膜制备图案化润湿性表面的方法

摘要

本发明提供了一种无掩膜制备图案化润湿性表面的方法，属于材料表面处理技术领域。本发明通过微细冷等离子体射流搭配运动平台不需借助掩膜，即可实现对固体材料表面的微米级图案化润湿性改性。微细冷等离子体射流可对材料进行快速亲液性改性，不会破坏被处理区域的表面微观结构，且可以长期保存，若重新对材料进行低表面能处理或高温还原，还可以重新恢复原有的润湿性。所使用的微细冷等离子体射流直径较小，射流集中，不易扩散，可实现定域、微区改性。故此方法是一种无掩膜、操作简单、能耗小、不会破坏材料表面结构、可循环利用的绿色环保的微区定域润湿性改性方法。

主权项

1.一种无掩膜制备图案化润湿性表面的方法，其特征在于，步骤如下：(1)材料的预处理：将固体基体材料进行抛磨、清洗和除油，若固体基体待处理表面为亲液或超亲液表面，则先将其处理为疏液或超疏液表面；(2)将处理好的固体基体布置于可调控运动平台上，或将微细等离子体射流发生装置放置于可调控运动平台上；(3)将微细等离子体射流发生装置安装于固体基体待处理表面的正上方，并与待处理表面垂直；打开工作气源和等离子体放电电源，产生微细冷等离子体射流，使微细等离子体射流发生装置与待处理表面保持距离且保证射流末端接触到待处理表面；(4)控制可调控运动平台使微细冷等离子体射流和固体基体之间产生既定的相对运动；(5)关闭等离子体放电电源与工作气源，取下处理后的固体基体，被微细冷等离子体射流处理后的区域呈现亲液性，未处理区域仍呈现疏液性。