[发明专利]一种掩膜集成框架及其制造方法有效
| 申请号： | 201810023957.6 | 申请日： | 2018-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN108251792B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 罗昶;吴建鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 11274 北京中博世达专利商标代理有限公司 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种掩膜集成框架及其制造方法，涉及蒸镀技术领域，可解决现有技术中掩膜片褶皱翘曲、更换或修复支撑条和遮挡条导致的成本增加、支撑条和遮挡条与掩膜片的相对位置无法调整、掩膜集成框架清洗不净的问题。包括：第一框架和第二框架，第一框架和第二框架均具有中空区域，且第一框架和第二框架通过套设固定连接；多个掩膜片，多个掩膜片依次跨设于第一框架的中空区域，且掩膜片的相对两端固定在第一框架上；遮挡条和/或支撑条，遮挡条和/或支撑条跨设于第二框架的中空区域，且遮挡条和/或支撑条的相对两端固定在第二框架上；其中，遮挡条位于相邻掩膜片之间的间隙位置，支撑条横跨多个掩膜片的无效掩膜区以支撑多个掩膜片。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜片 遮挡条 支撑条 集成框架 中空区域 掩膜 两端固定 跨设 间隙位置 褶皱翘曲 掩膜区 蒸镀 横跨 制造 清洗 修复 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜集成框架，其特征在于，包括：/n第一框架和第二框架，所述第一框架和所述第二框架均具有中空区域，且所述第一框架和所述第二框架通过套设固定连接；/n多个掩膜片，所述多个掩膜片依次跨设于所述第一框架的中空区域，且所述掩膜片的相对两端固定在所述第一框架上；/n遮挡条和/或支撑条，所述遮挡条和/或所述支撑条跨设于所述第二框架的中空区域，且所述遮挡条和/或所述支撑条的相对两端固定在所述第二框架上；其中，所述遮挡条位于相邻所述掩膜片之间的间隙位置，所述支撑条横跨多个所述掩膜片的无效掩膜区以支撑所述多个掩膜片；/n其中，所述第二框架包括外框和固定设置在所述外框内侧的内框，所述内框凸出于所述外框的上表面，且所述内框凸出于所述外框的上表面的高度小于或等于套设在其上的所述第一框架的厚度；所述第一框架套设于所述第二框架的内框上，且所述第一框架的内侧面与所述内框的外侧面接触，所述外框用于支撑所述第一框架。/n
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