[发明专利]一种放射性去污高强度可剥离膜、其制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201810017220.3 申请日: 2018-01-09
公开(公告)号: CN108034324B 公开(公告)日: 2020-03-10
发明(设计)人: 赵东;田青青;黄鹤翔;董文静;彭晓霞;周晓波;林桢辉;武俊红;黄磊;谢长红 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院材料研究所
主分类号: C09D147/00 分类号: C09D147/00;C09D5/16;C09D5/20;C09D7/61;C09D7/63;G21F9/12;G21F9/16;G21F9/30
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 沈强
地址: 621700 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种放射性去污高强度可剥离膜、其制备方法及应用,目的在于解决现有的剥离型压制去污剂主要用于大面积放射性沉降物的压制和清除,而用于松散污染的去除,具有一定局限性的问题。其采用如下重量百分比的原料制备而成:聚异戊二烯50%‑70%,硫磺0.3%‑3%,纳米白炭黑0.25%‑3%,促进剂ZDC 0.3%‑2%,防老剂D 0.5%‑2%,氧化锌0.1%‑1%,酪素0.05%‑1.0%,EDTA0.5%‑2%,分散剂BX0.02%‑0.5%,水20%‑40%等。本发明对聚异戊二烯基料进行硫化改性,并与其他组分复配,得到一种放射性去污高强度可剥离膜,其有效克服了原可剥离膜成膜强度不够,不易剥离的缺点。经实际验证,本发明的可剥离去污剂成膜强度高,拉伸强度可达110 kg/cm2,且在实际应用中,能将表面污染去污至清洁解控水平以下(<0.08Bq/cm2),具有显著的进步意义。
搜索关键词: 一种 放射性 去污 强度 剥离 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种放射性去污高强度可剥离膜,其特征在于,采用如下重量百分比的原料制备而成:聚异戊二烯 50%-70%,硫磺 0.3%-3%,纳米白炭黑 0.25%-3%,促进剂ZDC 0.3%-2%,防老剂D 0.5%-2%,氧化锌 0.1%-1%,酪素 0.05%-1.0%,EDTA 0.5%-2%,分散剂BX 0.02%-0.5%,水 20%-40%。
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