[发明专利]超声波指纹传感器及其制造方法在审
| 申请号： | 201810016576.5 | 申请日： | 2018-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN108363950A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 季锋;闻永祥;刘琛;周浩 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/00 | 分类号： | G06K9/00 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;张靖琳 |
| 地址： | 310012*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了超声波指纹传感器及其制造方法。该方法包括：形成CMOS电路；以及在CMOS电路上形成超声波换能器。在该方法中，形成超声波换能器的步骤包括：形成模板层；在模板层中形成第一开口；在模板层上形成第一停止层，第一停止层共形地覆盖模板层；在第一停止层上形成牺牲层，牺牲层填充第一开口；在第一停止层和牺牲层上形成第二停止层，第二停止层覆盖牺牲层；在第二停止层上形成压电叠层；形成穿过压电叠层到达牺牲层的至少一个第二开口；以及经由至少一个第二开口去除牺牲层形成空腔，其中，第一停止层和第二停止层共同围绕空腔。该方法在形成压电叠层之后形成空腔，从而提高产品良率和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 停止层 牺牲层 模板层 压电叠层 开口 空腔 超声波换能器 指纹传感器 超声波 产品良率 覆盖 共形 去除 填充 制造 穿过 申请 | ||
【主权项】：
1.一种制造超声波指纹传感器的方法，包括：形成CMOS电路；以及在所述CMOS电路上形成超声波换能器，所述CMOS电路与所述超声波换能器连接，用于驱动所述超声波换能器和处理所述超声波换能器产生的检测信号，其中，形成超声波换能器的步骤包括：形成模板层；在所述模板层中形成第一开口；在所述模板层上形成第一停止层，所述第一停止层共形地覆盖所述模板层；在所述第一停止层上形成牺牲层，所述牺牲层填充所述第一开口；在所述第一停止层和所述牺牲层上形成第二停止层，所述第二停止层覆盖所述牺牲层；在所述第二停止层上形成压电叠层；形成穿过所述压电叠层到达所述牺牲层的至少一个第二开口；以及经由所述至少一个第二开口去除所述牺牲层形成空腔，其中，所述第一停止层和所述第二停止层共同围绕所述空腔。
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