[发明专利]取向膜涂覆方法有效
| 申请号： | 201810003172.2 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN108196402B | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 孙禄标;孟维欣;夏高飞;高云;冯宇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种取向膜涂覆方法，属于显示技术领域。所述方法包括：在待涂覆取向膜的阵列基板的电极上形成保护膜，保护膜靠近阵列基板的有效显示区域的一边与电极靠近有效显示区域的一边共线；在形成有保护膜的阵列基板上形成取向膜；采用指定溶剂去除电极上的保护膜，以去除形成于保护膜上的取向膜，指定溶剂和电极不反应。本发明解决了采用溶解溶剂对形成在条状电极上的取向液进行溶解时而影响显示装置的显示效果的问题，提高了显示装置的显示效果。本发明用于取向膜涂覆。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 膜涂覆 方法 | ||
【主权项】：
1.一种取向膜涂覆方法，其特征在于，所述方法包括：在待涂覆取向膜的阵列基板的电极上形成保护膜，所述保护膜靠近所述阵列基板的有效显示区域的一边与所述电极靠近所述有效显示区域的一边共线；在形成有所述保护膜的阵列基板上形成取向膜；采用指定溶剂去除所述电极上的保护膜，以去除形成于所述保护膜上的取向膜，所述指定溶剂和所述电极不反应。
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