[发明专利]与散射测量术测量中的光栅非对称相关的不精确性的减轻有效
| 申请号： | 201780086130.3 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN110312966B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | I·阿达姆;V·莱温斯基;A·玛纳森;Y·卢巴舍夫斯基 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供散射测量术叠加目标以及目标设计及测量方法，其减轻基于衍射的叠加测量中的光栅非对称的效应。目标包括具有取代解析粗节距光栅的亚解析结构的额外单元，且/或包括具有粗节距周期性的交替亚解析结构，以隔离并移除由于光栅非对称所导致的不精确性。测量方法利用正交偏光照明，以相对于设计的目标结构，隔离不同测量方向上的所述光栅非对称效应。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 测量 中的 光栅 对称 相关 精确性 减轻 | ||
【主权项】：
1.一种散射测量术叠加SCOL目标，其沿着至少一个测量方向包括：两个单元，其具有至少在两个晶片层处的具指定粗节距的周期性结构，其中所述两个单元具有相应层中的顶部周期性结构相对于底部周期性结构的相反偏移，及两个单元，其各自具有所述两个层的不同者处的具所述指定粗节距的周期性结构，及所述两个层的另一者处的亚解析周期性结构。
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