[发明专利]修改微光刻光学系统的成像性质的方法和装置有效
| 申请号： | 201780084098.5 | 申请日： | 2017-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN110192154B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | J.克诺夫;M.阿瓦德 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06N20/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及修改微光刻的光学系统的成像性质的方法和装置。根据本发明的方法包含通过由至少一个接口耦合到光学系统中的控制信号(A，B，C)修改成像性质，其中在控制成像性质的期望的修改中被耦入的这些控制信号的相应值基于模型来确定，其中生成该模型在于：在学习阶段中发生将模型连续单独适配到光学系统，在该学习阶段中确定了对于控制信号的不同值所获得的成像性质的相应修改；并且其中在没有规定光学系统内关于内部动作机制的显性信息的情况下，实行学习阶段。 | ||
| 搜索关键词： | 修改 微光 光学系统 成像 性质 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司，未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780084098.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
