[发明专利]修改微光刻光学系统的成像性质的方法和装置

说明书

本发明涉及修改微光刻的光学系统的成像性质的方法和装置。根据本发明的方法包含通过由至少一个接口耦合到光学系统中的控制信号(A，B，C)修改成像性质，其中在控制成像性质的期望的修改中被耦入的这些控制信号的相应值基于模型来确定，其中生成该模型在于：在学习阶段中发生将模型连续单独适配到光学系统，在该学习阶段中确定了对于控制信号的不同值所获得的成像性质的相应修改；并且其中在没有规定光学系统内关于内部动作机制的显性信息的情况下，实行学习阶段。

本申请要求2016年12月21日的德国专利申请DE 10 2016 225 899.0的优先权。该DE申请的内容通过引用并入本申请文本中。

发明背景

技术领域

本发明涉及修改微光刻光学系统的成像性质的方法和设备。

背景技术

微光刻用于制造诸如集成电路或LCD的微结构部件。在包括照明装置和投射镜头的称为投射曝光设备中实行微光刻工艺。在这种情况下，通过投射镜头将通过照明装置所照明的掩模(＝掩模母版)的像投射到涂有感光层(光刻胶)且在投射镜头的像平面中布置的基板(例如硅晶片)上，以便于将掩模结构转印至基板的感光涂层。

为了增加图像位置准确度和图像质量(沿着光轴或在光传播方向上以及在横向方向上或者垂直于光轴或光传播方向上)，特别是已知将光学系统中的光学元件(例如反射镜)中的一个或多个配置为适应的或可致动元件。

仅作为示例，已知将光学系统中的一个或多个反射镜配置有由压电材料制成的致动器层，其中跨越压电层产生了具有局部改变强度的电场，导致了适应的反射镜的反射层系统与压电层的局部形变一起变形。因此，(还可以临时改变的)成像像差可以通过适当控制电极来至少部分地校正。然而，反射镜的反射层系统的形变或其他光学元件(诸如透镜元件)的致动，还可以总体上用于进一步优化微光刻成像工艺。

为了允许相关适应的光学元件的表面曲率的设定实际上以临时稳定的方式尽可能地精确，在现有技术中已知各种方法，其中原则上在适应的元件的相应致动器的基于模型的开环控制和致动器的基于测量数据的闭环控制之间是有区别的。

在实现致动器的基于模型的开环控制的已知方法中，创造采用显性知识或信息的模型，显性知识或信息与有关元件的构造和典型的材料性质有关，并且该模型用于计算相应取得的表面曲率，其中在没有实际取得的表面曲率的知识的情况下，特别是在没有对应的传感器系统或没有闭环控制系统的情况下，实现对致动器的控制。

在这样的基于显式模型的开环控制中，然而，实际上——如下文将更详细解释的——可能出现以下问题：当具体的光学系统中的指定的“唯一”的性质(例如，由于单独制造误差的指定成像行为)出现时，开环控制所基于的显式模型的有效性受限制，其中鉴于在这个情况下可能需要考虑的大量的影响参数，适当的校正或模型适配可以被证明为是极其复杂的。

关于致动器的基于测量数据(例如相应元件的实际取得的表面曲率的测量)的闭环控制(同样可将其设想作为先前描述的基于模型的开环控制的替代例)，表面曲率的可取得的精确性当然可以在该方面得到改进，但是这可能另外需要因此所需要的光学测量方法的构造复杂度增加。

关于现有技术，例如仅参考DE 10 2011 005 940 A1。

发明内容

本发明的目的是提供修改微光刻光学系统的成像性质的方法和设备，其可以用相对较小的复杂度使尽可能准确的修改成为可能。

该目标由根据独立专利权利要求1的特征的方法以及根据替代的独立专利权利要求9的特征的装置来实现。

在根据本发明的修改微光刻光学系统的成像性质的方法中，

-成像性质通过由至少一个接口耦合到光学系统中的控制信号来修改，

-其中该控制信号的值基于模型来确定，控制信号在控制成像性质的期望的修改期间在各个情况下被耦入，