[发明专利]硬盘基片以及使用该硬盘基片的硬盘装置有效
| 申请号： | 201780081695.2 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN110121745B | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 泷本彩香;迎展彰 | 申请（专利权）人： | 东洋钢钣株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/73 | 分类号： | G11B5/73;G11B5/738 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 日本国东京都品*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明解决的问题是提供一种能够减少盘片表面伤痕并抑制旋转过程中的盘面晃动的薄形硬盘基片以及使用该硬盘基片的硬盘装置。本发明的硬盘基片(1)的特征是在铝合金基片(2)的表面形成有NiP镀膜(3)，所述铝合金基片(2)的维氏硬度为60Hv或以上，所述NiP镀膜(3)的厚度与所述铝合金基片(2)的厚度之比为3.8％或以上，所述硬盘基片(1)的杨氏模量为74.6GPa或以上，所述硬盘基片(1)的维氏硬度为293Hv或以上。 | ||
| 搜索关键词： | 硬盘 以及 使用 装置 | ||
【主权项】：
1.一种硬盘基片，包括表面形成有NiP镀膜的铝合金基片，其特征在于，所述铝合金基片的维氏硬度为60Hv或以上，所述NiP镀膜的厚度与所述铝合金基片的厚度之比为3.8％或以上，所述硬盘基片的杨氏模量为74.6GPa或以上，所述硬盘基片的维氏硬度为293Hv或以上。
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