[发明专利]基板清洗装置及基板清洗方法

摘要

向基板(9)供给含有溶剂及溶质在内的处理液。通过使溶剂的至少一部分从处理液中挥发而使处理液固化或硬化，由此使处理液成为微粒保持层。向基板(9)上供给去除液并将微粒保持层从基板(9)去除。微粒保持层含有的溶质成分相对于去除液为不溶性或难溶性而溶剂为可溶性。微粒保持层含有的溶质成分具有在加热至改性温度以上的情况下改性而相对于去除液变为可溶性的性质。去除液在形成微粒保持层后不经过使溶质成分改性既被供给的工序。

主权项

1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：处理液供给部，其向基板上供给含有溶剂及溶质在内的处理液；去除液供给部，其向所述基板上供给去除液；以及控制部，其对所述处理液供给部及所述去除液供给部进行控制，所述溶剂具有挥发性，所述溶剂的至少一部分从供给到所述基板上的所述处理液挥发而使所述处理液固化或硬化，由此使所述处理液成为微粒保持层，所述微粒保持层中含有的作为所述溶质的溶质成分或从所述溶质导出的溶质成分相对于所述去除液为不溶性或难溶性，而所述溶剂相对于所述去除液为可溶性，所述微粒保持层中含有的所述溶质成分具有在加热至改性温度以上的情况下改性而相对于所述去除液变为可溶性的性质，通过所述控制部的控制，在所述基板上形成了所述微粒保持层后，不经过使所述微粒保持层的所述溶质成分改性的工序而从所述去除液供给部向所述微粒保持层供给所述去除液，由此从所述基板上去除所述微粒保持层。