[发明专利]包含耐受光降解的染料的光学制品

摘要

本发明涉及光学制品和光学过滤涂层，其包含至少一种吸收性染料，所述吸收性染料包含具有式(I)、(II)、(III)和(IV)的基团之一，其中R表示芳基或烷基，并且具有式(I)、(II)、(III)和(IV)的基团具有至少一个被选自‑OH、‑CN、溴、‑NO₂、烷氧基、芳氧基、‑COOH、‑CHO、‑CO烷基、‑CO芳基、卤代烷基、‑SH、‑S‑烷基、‑S‑芳基、‑SO₂烷基、‑OSO₂烷基、‑SO₂芳基、‑OSO₂芳基和磺酰胺的基团取代的碳原子，或具有至少两个被氯基团取代的碳原子。

主权项

1.一种包含至少一种吸收性染料的光学制品，所述吸收性染料包含具有下式的以下基团中的任一个：其中R表示芳基或烷基，X¹和X²独立地表示O或N‑R¹基团，其中R¹表示烷基或芳基，并且具有式(I)、(II)和(III)的基团具有至少一个被选自‑OH、‑CN、溴、‑NO₂、烷氧基、芳氧基、‑CO₂H、‑CHO、‑CO烷基、‑CO芳基、卤代烷基、‑SH、‑S‑烷基、‑S‑芳基、‑SO₂烷基、‑OSO₂烷基、‑SO₂芳基和‑OSO₂芳基的基团取代的碳原子，或具有至少两个被氯基团取代的碳原子，并且其中所述具有式(III)的染料不包含任何SO₃H基团或其盐，并且所述具有式(II)的染料不是具有下式中的任一个的化合物：