[发明专利]用于光谱特征计量的光束均匀化有效

专利信息
申请号: 201780070823.3 申请日: 2017-10-23
公开(公告)号: CN109964106B 公开(公告)日: 2022-08-26
发明(设计)人: 赵中全;B·E·金;T·P·达菲 申请(专利权)人: 西默有限公司
主分类号: G01J3/45 分类号: G01J3/45;F21S8/00;G01J3/26;G02B27/10;G03H1/08
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;潘树志
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种计量系统用于测量脉冲光束的光谱特征。计量系统包括:在脉冲光束的路径中的光束均化器,光束均化器具有波前修改单元的阵列,每个单元具有与光束的至少一个空间模式的尺寸相匹配的表面积;在离开光束均化器的脉冲光束的路径中的光学频率分离装置,其中光学频率分离装置被配置为与脉冲光束交互并且输出与脉冲光束的光谱分量相对应的多个空间分量;以及接收并且感测输出空间分量的至少一个传感器。
搜索关键词: 用于 光谱 特征 计量 光束 均匀
【主权项】:
1.一种用于测量脉冲光束的光谱特征的计量系统,所述系统包括:在所述脉冲光束的路径中的光束均化器,所述光束均化器具有波前修改单元的阵列,其中每个单元具有与所述光束的空间模式中的至少一个空间模式的尺寸相匹配的表面积;在离开所述光束均化器的所述脉冲光束的所述路径中的光学频率分离装置,其中所述光学频率分离装置被配置为与所述脉冲光束交互并且输出与所述脉冲光束的光谱分量相对应的多个空间分量;至少一个传感器,接收并且感测所输出的空间分量。
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