[发明专利]用于制备光敏有机电子器件的溶剂体系在审
| 申请号： | 201780066467.8 | 申请日： | 2017-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN109891614A | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | G·博沃;N·雅可比-格罗斯 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | H01L51/00 | 分类号： | H01L51/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王海宁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及包含p型和n型有机半导体和溶剂混合物的配制物，所述溶剂混合物包含取代有一个或多个选自烷基和烷氧基的取代基的芳族烃以及未取代或取代的苯并噻唑，例如2‑甲基苯并噻唑。该配制物可用于形成光敏有机电子器件例如有机光检测器的光活性层(3)，所述光敏有机电子器件包括阳极(2)、阴极(4)以及在阳极与阴极之间的光活性层。 | ||
| 搜索关键词： | 有机电子器件 光敏 阴极 溶剂混合物 阳极 光活性层 配制物 烷基 甲基苯并噻唑 有机光检测器 苯并噻唑 溶剂体系 芳族烃 烷氧基 可用 制备 | ||
【主权项】：
1.一种配制物，其包含n型有机半导体、p型有机半导体和溶剂混合物，其中所述溶剂混合物包含取代有一个或多个取代基的芳族烃以及未取代或取代的苯并噻唑，所述取代基选自烷基和烷氧基。
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