[发明专利]目标组件和同位素产生系统有效
| 申请号： | 201780066302.0 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN109964542B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·埃里克松;马丁·帕纳斯特;乔纳斯·诺林 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H05H6/00 | 分类号： | H05H6/00;G21G1/10 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;钱慰民 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种目标组件，该目标组件用于同位素产生系统。目标组件包括目标主体，该目标主体具有产生室和与产生室相邻的光束腔。产生室被配置为保持目标材料。光束腔通向目标主体的外部并且被配置为接收入射在产生室上的粒子光束。目标组件还包括目标片，该目标片被定位成将光束腔和产生室分离。目标片具有暴露于产生室的侧面，使得目标片在同位素产生期间与目标材料接触。该目标片包括石墨烯。 | ||
| 搜索关键词： | 目标 组件 同位素 产生 系统 | ||
【主权项】：
1.一种目标组件，所述目标组件用于同位素产生系统，所述目标组件包括：目标主体，所述目标主体具有产生室和与所述产生室相邻的光束腔，所述产生室被配置为保持目标材料，所述光束腔通向所述目标主体的外部并且被配置为接收入射在所述产生室上的粒子光束；和目标片，所述目标片被定位成将所述光束腔和所述产生室分离，所述目标片具有暴露于所述产生室的侧面，使得所述目标片在同位素产生期间与所述目标材料接触，其中所述目标片包括石墨烯。
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