[发明专利]玻璃基板的制造方法有效
申请号: | 201780064578.5 | 申请日: | 2017-10-30 |
公开(公告)号: | CN109843821B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 山本好晴;中塚弘树;大野和宏;伊泽诚一 | 申请(专利权)人: | 日本电气硝子株式会社 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;G02F1/13;G02F1/1333 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘影娜 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种玻璃基板的制造方法,包含如下工序:在将玻璃基板(2)以平放姿势沿搬运方向搬运,使得通过在对置配置的主体部(5a)与顶板部(5b)的相互之间形成的处理空间(13)的同时,使用处理气体(4),对玻璃基板(2)的下表面(2a)实施蚀刻处理,其中,从设置于主体部(5a)的供气口(14)向处理空间(13)供给该处理气体(4),并且,通过分别设置于主体部(5a)的搬运方向的上游侧端部及下游侧端部的排气口(15)从处理空间(13)排出该处理气体(4),关于沿着搬运方向的距离,下游侧端部的排气口(15)与最下游侧的供气口(14)的相互间距离(D2)比上游侧端部的排气口(15)与最上游侧的供气口(14)的相互间距离(D1)长。 | ||
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【主权项】:
1.一种玻璃基板的制造方法,其包含如下工序:在将玻璃基板以平放姿势沿搬运方向搬运,使得该玻璃基板通过在对置配置的上部构成体与下部构成体的相互之间形成的处理空间的同时,使用处理气体对所述玻璃基板的下表面实施蚀刻处理,其中,从设置于所述下部构成体的供气口向所述处理空间供给所述处理气体,并且,通过分别设置于所述下部构成体中的所述搬运方向的上游侧端部及下游侧端部的排气口从所述处理空间排出所述处理气体,所述玻璃基板的制造方法的特征在于,所述下游侧端部的排气口与最下游侧的所述供气口的沿着所述搬运方向的相互间距离比所述上游侧端部的排气口与最上游侧的所述供气口的沿着所述搬运方向的相互间距离长。
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