[发明专利]用于防止在处理腔室之间的干扰的方法和设备在审
| 申请号： | 201780061663.6 | 申请日： | 2017-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN109844171A | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 富宏·张;苏尼尔·库马尔·加格;保罗·基利;马丁·李·瑞克;威廉·弗鲁赫特曼;王征;王晓东 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/50;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述用于将在群集工具的相邻的处理腔室之间的电磁干扰最小化的方法和设备。基于主处理腔室的电磁工艺窗口、第一相邻的处理腔室和可选择的第二相邻的处理腔室的电磁窗口来控制主配方的开始时间。控制主处理腔室的开始时间以避免主腔室的电磁窗口与相邻的腔室的电磁窗口的时间重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 处理腔室 腔室 方法和设备 主处理 电磁干扰 电磁工艺 群集工具 时间重叠 主配方 主腔室 最小化 | ||
【主权项】：
1.一种处理基板的方法，所述方法包含以下步骤：将基板放置在主处理腔室内，所述主处理腔室具有第一相邻的处理腔室；将要在所述主处理腔室中执行的主处理配方加载至系统控制器中；将要在所述第一相邻的处理腔室中执行的第一处理配方加载至所述系统控制器中；使用所述系统控制器来评估所述第一处理配方以确定第一工艺窗口，在所述第一工艺窗口中电磁铁于所述第一相邻的处理腔室中被供电；使用所述系统控制器来确定所述主处理配方的开始时间；和使用所述系统控制器来控制所述主处理腔室以在所述开始时间处开始进行所述主处理配方。
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