[发明专利]光刻设备和方法有效
| 申请号： | 201780061493.1 | 申请日： | 2017-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN109863453B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | G·纳基伯格鲁;M·E·威尔;S·C·R·德克斯;J·W·莫伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种执行衬底的光刻曝光的方法，衬底保持在衬底台上，衬底台包括可操作用以冷却衬底台的冷却系统，方法包括，执行衬底的对准测量，施加热量至衬底台以减小由冷却系统所提供对衬底台的冷却，在执行对准测量时刻与执行光刻曝光时刻之间施加热量，以及执行衬底的光刻曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种执行衬底的光刻曝光的方法，所述衬底被保持在衬底台上，所述衬底台包括可操作为冷却所述衬底台的冷却系统，所述方法包括：执行所述衬底的对准测量；施加热量至所述衬底台以减小由所述冷却系统提供的、对所述衬底台的冷却，所述热量在执行所述对准测量的时刻与执行所述光刻曝光的时刻之间被施加；以及执行所述衬底的所述光刻曝光。
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