[发明专利]光刻设备和方法

说明书

一种执行衬底的光刻曝光的方法，衬底保持在衬底台上，衬底台包括可操作用以冷却衬底台的冷却系统，方法包括，执行衬底的对准测量，施加热量至衬底台以减小由冷却系统所提供对衬底台的冷却，在执行对准测量时刻与执行光刻曝光时刻之间施加热量，以及执行衬底的光刻曝光。

相关申请的交叉引用

本申请要求享有2016年10月7日提交的EP申请No.16192775.1的优先权，并在此通过全文引用的方式将其并入本文。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和方法。

背景技术

光刻设备是将期望图案施加至衬底上、通常至衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在该情形中，备选地称作掩模或刻线板的图案化装置可以用于产生将要形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个管芯的一部分)上。图案的转移通常是经由成像至提供于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机，其中通过一次将整个图案曝光值目标部分上而照射每个目标部分，以及所谓的扫描机，其中通过沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案穿过辐射束同时平行于或反平行于该方向扫描衬底而照射每个目标部分。也能够通过将图案压印至沉底上而将图案从图案化装置转移至衬底。

为了控制光刻工艺以精确地施加期望图案至衬底上，在衬底上提供对准标记，并且为光刻设备提供对准系统。配置对准系统以执行测量，其确定提供在衬底上对准标记的位置。使用由对准系统做出的测量而执行对准。可以希望例如提供改进光刻曝光精确度的光刻设备和方法。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了一种执行衬底的光刻曝光的方法，衬底被保持在衬底台上，衬底台包括可操作为冷却衬底台的冷却系统，方法包括：执行衬底的对准测量；施加热量至衬底台以减小由冷却系统所提供的对衬底台的冷却，在执行对准测量的时刻与执行光刻曝光的时刻之间施加热量；以及执行衬底的光刻曝光。

施加热量至衬底台有利地减小了由衬底台所保持的衬底所经历的热漂移。由衬底经历的减小热漂移导致更精确的光刻曝光，因为衬底的目标部分更靠近它们的测量对准位置。

可以在对准测量已经开始之前开始施加热量。

可以在对准测量期间开始热量的施加。

在对准测量已经开始之前或者在对准测量期间施加热量至衬底台，可以有利地为衬底的温度稳定至在执行光刻曝光之前减小衬底的热漂移提供时间。

施加至衬底台的热量的量可以随时间变化。

随时间变化施加至衬底台的热量有利地准许在减小衬底热漂移中更大的灵活度。例如，可以随时间变化施加热量的第一量至衬底以便于稳定化衬底台的温度，随后可以随时间变化施加小于热量的第一量的热量的第二量至衬底，以便于维持衬底台的稳定化温度。

可以跨衬底台分布热量以实现跨衬底台的期望温度。

以期望方式跨衬底台分布热量允许将跨衬底台的不同温度梯度用于确定何时减少衬底的热漂移。例如，如果在光刻曝光期间转移至衬底台的热量跨衬底台分布不均匀，则热量可以跨衬底台分布以使得与其他区域相比更多热量转移至衬底台的一些区域。

在施加至衬底台的热量和因热量被施加至衬底台所致的衬底台变化温度之间的延迟被用于确定何时施加热量至衬底台。

考虑在施加热量至衬底台与因被施加至衬底台的热量所致的衬底台改变温度之间的延迟可以有利地提高减小衬底热漂移的精确度。

衬底台可以包括被配置为将衬底固定至衬底台的夹具，并且热量可以施加至夹具。

施加热量至夹具可以有利地允许更大地减小衬底的热漂移。