[发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法有效

专利信息
申请号: 201780061213.7 申请日: 2017-05-15
公开(公告)号: CN109791371B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 加藤正纪;中山修一 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B26/10;G02B26/12;H05K3/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王涛;任默闻
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的图案描绘装置(EX)具备:位置计测部(MU),其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置;第1调整构件(HVP),其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少,而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整;及第2调整构件(AOM1),其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少,而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
搜索关键词: 图案 描绘 装置 方法
【主权项】:
1.一种图案描绘装置,其是使以光点的形式聚光于基板上的描绘光束沿第1方向扫描而描绘图案的描绘单元于所述第1方向上配置有多个,藉由所述基板往与所述第1方向交叉的第2方向上的移动,而将利用多个所述描绘单元描绘的图案于所述第1方向上接合而进行描绘,且具备:位置计测部,其计测应藉由所述多个描绘单元描绘的所述基板上的被曝光区域的位置;第1调整构件,其是为了使利用所述描绘单元的各个描绘的图案相对于所述被曝光区域的位置误差减少,而根据利用所述位置计测部计测出的位置对基于所述描绘单元的各个的所述光点的位置于所述基板的移动中在所述第2方向上进行调整;及第2调整构件,其是为了使利用所述描绘单元的各个描绘的图案于所述第2方向上的接合误差减少,而对基于所述描绘单元的各个的所述光点的位置于所述基板的移动中以高于所述第1调整构件的响应性在所述第2方向上进行调整。
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