[发明专利]用于监视工艺设备的方法和设备在审
| 申请号： | 201780054511.3 | 申请日： | 2017-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN109716236A | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | M·J·马斯洛;J·C·H·姆肯斯;P·滕伯格;F·范德马斯特;J-W·杰姆尼克;L·瑞亚南 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种衬底，包括衬底层；以及在衬底层上的可蚀刻层，可蚀刻层包括在其上或在其中的图案化区域，并且包括尺寸足以使得能够确定用于蚀刻空白区域的蚀刻工具的体蚀刻率的空白区域。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 可蚀刻层 空白区域 衬底层 方法和设备 图案化区域 工艺设备 体蚀刻 衬底 监视 | ||
【主权项】：
1.一种衬底，包括：衬底层；以及在所述衬底层上的可蚀刻层，所述可蚀刻层包括在其上或在其中的图案化区域，并且所述可蚀刻层包括尺寸足以使得能够确定蚀刻工具的体蚀刻率的空白区域。
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