[发明专利]光电容积描记传感器构造在审
| 申请号： | 201780052611.2 | 申请日： | 2017-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109640794A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 埃利亚斯·佩科宁;塞波·科尔卡拉 | 申请（专利权）人： | 博能电子公司 |
| 主分类号： | A61B5/00 | 分类号： | A61B5/00;A61B5/1455;A61B5/024;A61B5/0205 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 王晖;李丙林 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本文件公开了一种适用于测量光电容积描记图(PPG)的设备。光电容积描记传感器设备可以包括：限定表面的壳体；多个光学发射器，被构造为发射从表面延伸的辐射；至少一个光电传感器，被构造为捕获由多个光学发射器的至少一个子组发射的辐射，其中至少第一测量构造和第二构造由多个光学发射器和至少一个光电传感器限定，使得第一和第二测量构造通过包括至少一个光电传感器和至少一个光学发射器的至少部分不同组来提供不同的测量通道，并且第一和第二测量构造限定不同的空间构造，其中的每个相对于沿表面的假想线是线对称的。 | ||
| 搜索关键词： | 光学发射器 光电容积描记 光电传感器 第二测量 传感器构造 传感器设备 表面延伸 测量通道 第一测量 空间构造 文件公开 限定表面 发射 辐射 假想线 线对称 壳体 子组 捕获 测量 | ||
【主权项】：
1.一种光电容积描记传感器设备，包括：限定表面的壳体；多个光学发射器，被构造为发射从所述表面延伸的辐射；至少一个光电传感器，被构造为捕获由所述多个光学发射器的至少一个子组发射的辐射，其中，至少第一测量构造和第二构造由所述多个光学发射器和所述至少一个光电传感器限定，使得所述第一测量构造和所述第二测量构造通过包括至少一个光电传感器和至少一个光学发射器的至少部分不同组来提供不同的测量通道，并且所述第一测量构造和第二测量构造限定不同的空间构造，所述不同的空间构造中的每个相对于沿所述表面的假想线是线对称的。
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